電子工業(yè)從產(chǎn)品來分的話，自上而下可以分為電子整機(jī)產(chǎn)品和電子基礎(chǔ)產(chǎn)品，還有電子材料等三個(gè)部分，其中包含有：光電器件、半導(dǎo)體器件、電子元件及電子終端產(chǎn)品等方面。電子廠廢氣的主要來源是對(duì)電子產(chǎn)品的表面涂層工藝環(huán)節(jié)所用溶劑型涂料和清洗工藝環(huán)節(jié)所用有機(jī)溶劑所致。電子工業(yè)廢氣VOCS常見的種類有：異丙醇、丁酮、甲苯、醋酸丁酯、甲醇、乙醇、丙酮、二甲苯、丙二醇單甲醚、苯乙烯、乙酸乙酯、正丁醇、甲基異丁基甲酮、二氯甲烷、環(huán)已酮、乙苯、正庚烷、甲氫呋喃、三氯乙烯和氯方等。

2、吸附法（活性炭）：投資小、工藝簡單，易飽和，需要與脫附、冷凝、焚燒等方法聯(lián)用才能滿足排放要求；

3、冷凝法：與吸收、吸附等方法聯(lián)用，將有機(jī)廢氣吸附濃縮后冷凝、分離，回收其中有價(jià)值的有機(jī)物。此法適用濃度高、風(fēng)量小的有機(jī)廢氣處理場合。缺點(diǎn)是：投資、能耗、運(yùn)行費(fèi)用高，冷凝回收物提純處理后，仍有相當(dāng)部分液態(tài)廢棄物需要進(jìn)一步處理。該方案與生產(chǎn)設(shè)備、生產(chǎn)工藝存在匹配關(guān)系，偏離這種匹配關(guān)系將提高治理成本，影響治理效果；

5、光催化氧化法：采用C波段（僅次于切割不銹鋼的激光，強(qiáng)于氬弧焊光源的數(shù)十倍強(qiáng)度）在設(shè)備內(nèi)，強(qiáng)裂解惡臭物質(zhì)分子鏈，改變物質(zhì)結(jié)構(gòu)，將高分子污染物質(zhì)，裂解、氧化成為低分子無害物質(zhì)，如水和二氧化碳等；

6、高溫等離子凈化法：經(jīng)過壓縮、高壓聚能放電成為高溫等離子體。反應(yīng)器壓力增高，氣體體積急劇膨脹，在高溫、高電勢(shì)的雙重作用下，有機(jī)廢氣瞬間(萬分之5秒)成為高溫等離子體，其中長分子鏈裂解成單質(zhì)原子，有機(jī)物凈化率在90%左右。